行业主要上市公司：安集科技 ( 688019 ) 、上海新阳 ( 300236 ) 、鼎龙股份 ( 300054 ) 、万华化学 ( 600309 ) 等

本文核心数据：安集科技和上海新安纳专利申请数量、专利市场价值、重点专利布局

(资料图)

全文统计口径说明：1 ) 搜索关键词：CMP 抛光液及与之相近似或相关关键词 ;2 ) 搜索范围：标题、摘要和权利说明 ;3 ) 筛选条件：简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT 进入指定国 ( 指定期 ) ，简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4 ) 统计截至日期：2023 年 4 月 17 日。5 ) 若有特殊统计口径会在图表下方备注。

1、中国 CMP 抛光液技术竞争格局：安集科技和上海新安纳为中国主要企业之二

从企业的专利数量分布情况来看，安集科技和上海新安纳属于专利数量较多的企业。其中，安集科技的相关技术数量占比达到了 35% 左右，上海新安纳的相关技术数量占比为 4% 左右。

2、安集科技 V.S. 上海新安纳技术布局对比

( 1 ) 专利申请量及 PCT 申请量对比：安集科技遥遥领先于上海新安纳

不过，在 CMP 抛光液专利申请量方面，安集科技 CMP 抛光液专利申请总量是上海新安纳 CMP 抛光液专利申请量的 6 倍左右，分别为 124 项和 20 项。

从趋势上看，2004-2023 年安集科技在 CMP 抛光液领域各年专利申请量整体比上海新安纳多。上海新安纳各年专利申请数量均为个位数，安集科技专利申请数量最高达到 18 项。( 2 ) 专利市场价值对比：微软专利市场价值更高

安集科技 CMP 抛光液专利总价值高于上海新安纳，安集科技 CMP 抛光液专利总价值为 787.18 万美元，是上海新安纳的 4 倍多。

在专利价值分布方面，两者大多数 CMP 抛光液专利价值主要集中在 3 万 -30 万美元。( 3 ) 专利申请地域对比：美国为两者主要布局区域

目前，安集科技和上海新安纳的 CMP 抛光液专利申请区域主要集中在中国大陆，两者在中国大陆申请的 CMP 抛光液专利数量分别为 111 项和 20 项。中国台湾是安集科技 CMP 抛光液专利申请的第二大地区，专利申请数量为 35 项。

统计口径说明：按每件申请显示一个公开文本的去重规则进行统计，并选择公开日最新的文本计算。

( 4 ) 专利类型对比：两者以发明专利为主

从专利类型分布情况来看，安集科技和上海新安纳 CMP 抛光液专利申请类型均为发明专利。

( 5 ) 专利技术构成对比：两者布局的第一大细分领域一致，但微软聚焦领域更为明显

目前，"C09G1 抛光组合物 ( 虫胶清漆入 C09F11/00; 洗涤剂入 C11D ) [ 2006.01 ] " 为安集科技和上海新安纳的第一大 CMP 抛光液技术细分分布领域，两者在这一领域的专利申请量分别为 121 项和 19 项。两者其它重点细分 CMP 抛光液技术布局情况如下：

从 CMP 抛光液专利聚焦的领域看，目前微软的 CMP 抛光液专利聚焦领域较明显，其主要聚焦于化学机械、抛光液等。( 6 ) 专利创新战略总结

整体来看，安集科技 CMP 抛光液技术在质量提升、专业化、多样化和国际化具有相对竞争优势，上海新安纳 CMP 抛光液技术则在数量增长、市场推动和合作性上具有相对竞争优势。

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